簡易檢索 / 檢索結果

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    界面氮氧化鉭氧化層對銅摻雜二氧化矽電阻切換性質的影響
    • 科技 /99/ 碩士
    • 研究生: 韓明恩 指導教授: 周賢鎧
    • 本論文以濺鍍及共濺鍍沉積的方式製作Cu/Cu-SiO2/TaN,TaN/Cu-SiO2/TaN三層結構,經由電性量測結果可知上述兩種元件皆有電阻切換的性質。電極材料皆為TaN的元件在連續操作100次…
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